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• 特徴：優れた研磨レート。
• 特徴：凝集しない、高分散性。
• 特徴：均一かつ良好な仕上げ面が得られる。
• 用途：光ファイバ・光コネクタ、結晶体（Si、Ge、GaAs、InP、SiC）、ハードディスク、セラミック、硬質合金、ステレンス、光学ガラスなど。
• 取扱・保管方法：使用する前によく振ってからご使用ください。保管温度：0-35℃。

CO/AO/SC系スラリーはお客様のご要望に合わせてオリジナルの精密研磨剤をご提供します、原料の砥粒は酸化セリウム（CO）、酸化アルミナ（AO）、炭化ケイ素（SC）からお選び頂けます。また分散安定性が高く、均一でかつ良好な仕上面が得られます。ガラス基板、化合物結晶体、セラミック、光ファイバ・光コネクタ、金属などの多くの材料の精密仕上げに最適です。

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